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作者
Yuan Hsing Fu,Nanxi Li,Lei Chen,Qize Zhong,Yuan Dong,Dongdong Li,Zhengji Xu,Ting Hu,Yanyan Zhou,Keng Heng Lai,Min Zhu,Shiyang Zhu,Qunying Lin,Shengdi Huang,Navab Singh
出处
期刊：Conference on Lasers and Electro-Optics
日期：2020-01-01
标识
DOI：10.1364/cleo_si.2020.sw4e.4
摘要
We report a large-area metasurface beam shaper via 12-inch immersion lithography CMOS platform. A3 × 3 mm 2 metasurface beam shaper is designed to transfer a Gaussian intensity distribution to a Top-Hat intensity distribution.
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