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Effects of fluorine and chlorine on the gate oxide integrity of W/TiN/SiO2/Si metal–oxide–semiconductor structure
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作者
Dae-Gyu Park,
Tae-Kyun Kim
出处
期刊：
Thin Solid Films
[Elsevier BV]
日期：2005-03-11
卷期号：483 (1-2): 232-238
被引量：20
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2004.12.003
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