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ν = 0 quantum Hall state in a cadmium arsenide thin film

凝聚态物理 拓扑绝缘体 量子霍尔效应 朗道量子化 材料科学 砷化物 磁电阻 薄膜 拓扑(电路) 磁场 砷化镓 物理 纳米技术 量子力学 数学 组合数学
作者
Binghao Guo,Alexander C. Lygo,Xi Dai,Susanne Stemmer
出处
期刊:APL Materials [American Institute of Physics]
卷期号:10 (9) 被引量:11
标识
DOI:10.1063/5.0102703
摘要

Graphene and topological insulators can feature a unique quantum Hall state with a filling factor of ν = 0 that supplies a wealth of information about the nature of the underlying electronic states. Here, we report on the observation of a ν = 0 Hall state in magnetotransport experiments on a 20-nm-thin, (001)-oriented cadmium arsenide film that is tuned by a gate voltage. While cadmium arsenide is a topological semimetal as a bulk material, thin films can host topological insulator phases. At high magnetic fields, we observe a highly resistive ν = 0 Hall state that we attribute to a widening gap between two zeroth Landau levels as the magnetic field is increased. We discuss possible scenarios that could give rise to the lifting of the degeneracy of zeroth Landau levels. Our results are most consistent with a scenario of hybridization of the topological surface states induced by quantum confinement.
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