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Low-energy electron interaction with 2-(trifluoromethyl)acrylic acid, a potential component for EUVL resist material

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作者
Reza Tafrishi,D. Torres-Díaz,L. Amiaud,A. Lafosse,Oddur Ingólfsson
出处
期刊：Physical Chemistry Chemical Physics [The Royal Society of Chemistry]
日期：2023-01-01 卷期号：25 (27): 17987-17998 被引量：2
链接
nih.gov hal.sciencedoi.org
标识
DOI：10.1039/d3cp01860a
摘要
Low energy electron-induced fragmentation of 2-(trifluoromethyl)acrylic acid a potential component of extreme ultraviolet lithography resist materials.
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