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Facilitating Flat-Band Voltage Shifts of 4h-Sic Mos Capacitors By Hfo 2 /Sio 2 Laminated Stacks with Multiple Interfacial Dipole Layers

电容器 材料科学 偶极子 光电子学 电压 电气工程 物理 工程类 量子力学
作者
Xinwei Wang,Haisheng Bi,Shuyun Zhou,Ze Yang,Weifeng Yang
标识
DOI:10.2139/ssrn.5344159
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