二甲基硅烷
化学气相沉积
硅
沉积(地质)
材料科学
放射化学
化学
化学工程
分析化学(期刊)
纳米技术
光电子学
环境化学
高分子化学
工程类
生物
古生物学
沉积物
作者
Satoru Yoshimura,Satoshi Sugimoto,Takae Takeuchi,Kensuke Murai,Masato Kiuchi
出处
期刊:Heliyon
[Elsevier]
日期:2023-08-01
卷期号:9 (8): e19002-e19002
被引量:7
标识
DOI:10.1016/j.heliyon.2023.e19002
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI