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Low energy Si+, SiCH5+, or C+ beam injections to silicon substrates during chemical vapor deposition with dimethylsilane

二甲基硅烷 化学气相沉积 沉积(地质) 材料科学 放射化学 化学 化学工程 分析化学(期刊) 纳米技术 光电子学 环境化学 高分子化学 工程类 生物 古生物学 沉积物
作者
Satoru Yoshimura,Satoshi Sugimoto,Takae Takeuchi,Kensuke Murai,Masato Kiuchi
出处
期刊:Heliyon [Elsevier]
卷期号:9 (8): e19002-e19002 被引量:7
标识
DOI:10.1016/j.heliyon.2023.e19002

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