Demonstration of superior UIS robustness of 3300 V scaled IGBT by non-proportional scaling methods

稳健性(进化) 绝缘栅双极晶体管 缩放比例 双极结晶体管 计算机科学 电子工程 晶体管 材料科学 电气工程 电压 化学 数学 工程类 几何学 生物化学 基因
作者
Xiang Zhou,Wataru Saito,Toshiro Hiramoto
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics [Institute of Physics]
卷期号:64 (3): 034001-034001 被引量:2
标识
DOI:10.35848/1347-4065/adb5e3
摘要

Abstract Robustness under high-temperature Unclamped Inductive Switching (UIS) tests was systematically compared among 3300 V scaled Insulated Gate Bipolar Transistors (IGBTs) using TCAD simulations, with scaling factors (k) ranging from 1 to 10. Based on multiple lines of physical evidence, the failure mechanism of IGBTs during the UIS test was identified as a latch-up. A slight degradation in UIS robustness was observed in fully scaled IGBTs, as evaluated using a novel reliability comparison method. Moreover, certain non-proportional scaling techniques were shown to mitigate this degradation, with some approaches even surpassing the UIS robustness of the original (k = 1) IGBT design.
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