Observation of skyrmion-induced topological Hall effects in Mn3.5Au0.5N films

霍尔效应 空中骑兵 电阻率和电导率 凝聚态物理 电子 分子束外延 磁场 横截面 物理 材料科学 外延 纳米技术 量子力学 结构工程 工程类 图层(电子)
作者
Dan Li,Dawei Sun,Zhixian Zhao,Hongwei Li
出处
期刊:Materials Letters [Elsevier BV]
卷期号:366: 136551-136551
标识
DOI:10.1016/j.matlet.2024.136551
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