Effect of N2O/SiH4 ratio on the properties of low-temperature silicon oxide films from remote plasma chemical vapour deposition

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作者
Young-Bae Park,Jin‐Kyu Kang,Shi‐Woo Rhee
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:280 (1-2): 43-50 被引量:22
标识
DOI:10.1016/0040-6090(95)08191-7
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