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Formation and characterization of Ta2O5/TaOx films formed by O ion implantation

表征(材料科学) 材料科学 离子注入 离子 结晶学 纳米技术 光电子学 化学 有机化学
作者
S. Ruffell,P. Kurunczi,Jonathan England,Yuri Erokhin,J. Hautala,R. G. Elliman
出处
期刊:Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B-beam Interactions With Materials and Atoms [Elsevier BV]
卷期号:307: 491-494 被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.nimb.2012.11.092
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