A New Process for Silica Coating

过饱和度 硅酸钠 涂层 化学工程 溶解 材料科学 碱金属 浸出(土壤学) 石灰 硅酸盐 矿物学 化学 冶金 复合材料 有机化学 工程类 土壤科学 土壤水分 环境科学
作者
Hirotsugu Nagayama,Hisao Honda,Hideo Kawahara
出处
期刊:Journal of The Electrochemical Society [Institute of Physics]
卷期号:135 (8): 2013-2016 被引量:290
标识
DOI:10.1149/1.2096198
摘要

Silica film was deposited on the surface of soda lime silicate glass by immersing it in hydrofluosilicic acid solution supersaturated with silica gel at low temperature. The composition and the structure of these films were evaluated using ESCA, IRRS, fluoric acid etching test, and sodium leaching test, and they were compared with those of various silica films prepared by other methods. The results showed that these films made at low temperature had a dense structure and a great alkali barrier effect. By heat‐treatment, the structure of this film became denser, getting close to that of fused silica. It was also found that the degree of supersaturation and the solution temperature had a great influence on the deposition rate.
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