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A high capability vapor chamber in thermal management of high power and heat flux chips

材料科学 电子设备和系统的热管理 热流密度 核工程 热的 功率(物理) 焊剂(冶金) 高温 机械工程 电气工程 环境科学 机械 工程类 传热 热力学 复合材料 物理 冶金
作者
Shichao Bu,Haolei Wang,Xiaoping Yang,Yonghai Zhang,Hantao Jing,Shuai Li,Jinjia Wei
出处
期刊:Applied Thermal Engineering [Elsevier BV]
卷期号:279: 127574-127574 被引量:5
标识
DOI:10.1016/j.applthermaleng.2025.127574
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