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Correlating the Valence State with the Adsorption Behavior of a Cu‐Based Electrocatalyst for Furfural Oxidation with Anodic Hydrogen Production Reaction

电催化剂 吸附 材料科学 阳极 催化作用 化学工程 无机化学 价(化学) 电化学 化学 电极 物理化学 有机化学 工程类
作者
Ming Yang,Yingying Li,Chung‐Li Dong,Shengkai Li,Leitao Xu,Wei Chen,Jingcheng Wu,Yuxuan Lu,Yuping Pan,Yandong Wu,Yongxiang Luo,Yucheng Huang,Shuangyin Wang,Yuqin Zou
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:35 (39): e2304203-e2304203 被引量:88
标识
DOI:10.1002/adma.202304203
摘要

Abstract The low‐potential furfural oxidation reaction (FFOR) on a Cu‐based electrocatalyst can produce H 2 at the anode, thereby providing a bipolar H 2 production system with an ultralow cell voltage. However, the intrinsic activity and stability of the Cu‐based electrocatalyst for the FFOR remain unsatisfactory for practical applications. This study investigates the correlation between the valence state and the adsorption behavior of the Cu‐based electrocatalyst in furfural oxidation. Cu 0 is the adsorption site with low intrinsic activity. Cu + , which exists in the form of Cu(OH) ads in alkaline electrolytes, has no adsorption ability but can improve the performance of Cu 0 by promoting the adsorption of FF. Moreover, a mixed‐valence Cu‐based electrocatalyst (MV Cu) with high intrinsic activity and stability is prepared electrochemically. With the MV Cu catalyst, the assembled dual‐side H 2 production electrolyzer has a low electricity requirement of only 0.24 kWh m H2 −3 at an ultralow cell voltage of 0.3 V, and it exhibits sufficient stability. This study not only correlates the valence state with the adsorption behavior of the Cu‐based electrocatalyst for the low‐potential FFOR with anodic H 2 production but also reveals the mechanism of deactivation to provide design principles for Cu‐based electrocatalysts with satisfactory stability.
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