Application of surfactants in enhancing chemical mechanical polishing slurry performance for microelectronics: A review

材料科学 微电子 化学机械平面化 泥浆 抛光 复合材料 纳米技术
作者
Song Ma,Yiwen Chen,Caoxu Wang,Yan Li,Xu Yang,Yue Wu
出处
期刊:Materials today communications [Elsevier BV]
卷期号:46: 112547-112547 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.mtcomm.2025.112547
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