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Effect of ammonium halide salts on wet chemical nanoscale etching and polishing of InGaAs surfaces for advanced CMOS devices

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作者
Suprakash Samanta,Seungwan Jin,Chanhee Lee,Seongsoo Lee,Herbert Struyf,Tae-Gon Kim,Jin-Goo Park
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2023-03-22 卷期号：161: 107469-107469 被引量：6
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2023.107469
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