Investigation of Thin-Barrier AlGaN/GaN HEMT Heterostructures for Enhanced Gas-Sensing Performance

高电子迁移率晶体管 异质结 材料科学 光电子学 阻挡层 费米气体 晶体管 图层(电子) 电子 纳米技术 物理 电气工程 工程类 量子力学 电压
作者
Akhil Ranjan,Ravikiran Lingaparthi,N. Dharmarasu,K. Radhakrishnan
出处
期刊:IEEE Sensors Journal [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:22 (19): 18306-18312 被引量:9
标识
DOI:10.1109/jsen.2022.3201028
摘要

In this study, a theoretical relationship between two-dimensional electron gas (2DEG) properties of AlGaN/GaN high-electron-mobility transistor (HEMT) hetero- structure and various gas-sensing characteristics using this structure was established. Based on the analytical study, it is proposed that a thinner barrier layer in AlGaN/GaN HEMT heterostructure should result in lower detection limits, higher sensing response, and a faster response time. To prove the analytical study, a thin-barrier (~8 nm) AlGaN/GaN HEMT structure was designed and grown to study its sensing characteristics. The results are compared with the thick-barrier (~18 nm) gas sensor structure. For the thin-barrier NO2 sensor, the sensing response increased by almost ten times when $\sf \Delta {I}$ was changed by more than 25%. The sensor also showed a faster response time of 10 s when compared to the thick barrier sensor. Similarly, the thin-barrier NH3 sensor showed a remarkable improvement in sensing response by 17 times and $\sf \Delta {I}$ by two times. Based on the response time, the thin-barrier NH3 sensor was also found to be 40% more faster compared to the thick-barrier AlGaN/GaN HEMT sensor.

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