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Compositional analysis of HgCdTe epitaxial layers using secondary ion mass spectrometry

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作者
L. O. Bubulac,D. D. Edwall,J. T. Cheung,C.R. Viswanathan
出处
期刊:Journal of vacuum science & technology [American Institute of Physics]
卷期号:10 (4): 1633-1637 被引量:17
标识
DOI:10.1116/1.586260
摘要

The work reported here elaborates on the emission of the secondary Te− ions from secondary ion mass spectrometry (SIMS) analysis of HgCdTe using a Cs+ primary ion beam. Investigations of numerous samples covering a wide compositional range showed excellent linear correlation between negative Te ion yield and Cd mole fraction. These led to the newly developed SIMS analytical method for measuring the changes in the composition of Hg1−xCdxTe with high sensitivity and depth resolution. A physical model describing the emission of secondary Te− ions is proposed. The results can be interpreted by considering the short range interaction between reactive Cs primary beam and the CdTe sublattice via a ‘‘harpoon’’ mechanism. The relevance of this method to the development of Hg1−xCdxTe was demonstrated on metalorganic chemical vapor deposition grown heterostructures.
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