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High-resolution and large-area nanoparticle arrays using EUV interference lithography

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作者
Waiz Karim,Simon A. Tschupp,Mehtap Oezaslan,Thomas J. Schmidt,J. Gobrecht,Jeroen A. van Bokhoven,Yasin Ekinci
出处
期刊:Nanoscale [Royal Society of Chemistry]
卷期号:7 (16): 7386-7393 被引量:57
标识
DOI:10.1039/c5nr00565e
摘要

Step-and-repeat EUV–ATL to obtain large-area nanoparticle arrays.

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