Thermodynamics of the Si‐O‐N System: I, High‐Temperature Study of the Vaporization Behavior of Silicon Nitride by Mass Spectrometry

材料科学 分析化学(期刊) 氮化物 热力学 蒸汽压
作者
Philippe Rocabois,Christian Chatillon,Claude Bernard
出处
期刊:Journal of the American Ceramic Society [Wiley]
卷期号:79 (5): 1351-1360 被引量:31
标识
DOI:10.1111/j.1151-2916.1996.tb08596.x
摘要

Si{sub 3}N{sub 4}(s) powders are vaporized in effusion cells, and the gaseous phase, analyzed by mass spectrometry, is composed of N{sub 2}, Si, Si{sub 2}, Si{sub 3}, SiN, and Si{sub 2}N. Owing to retarding vaporization of N{sub 2}, effusion cells with different orifice sizes are used in order to determine the evaporation coefficient for this species, which is then compared with previous Knudsen or Langmuir studies. Enthalpies of formation for SiN(g) and Si{sub 2}N(g) are determined.

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