Theoretical calculations of Debye length, built-in potential and depletion layer width versus dopant density in a heavily doped p-n junction diode

掺杂剂 材料科学 耗尽区 凝聚态物理 兴奋剂 电介质 带隙 德拜长度 态密度 电容 光电子学 半导体 化学 物理 离子 物理化学 有机化学 电极
作者
K.W. Teng,Shuguang Li
出处
期刊:Solid-state Electronics [Elsevier BV]
卷期号:28 (3): 277-285 被引量:21
标识
DOI:10.1016/0038-1101(85)90007-3
摘要

Theoretical calculations of Debye length, built-in potential, depletion layer width and capacitance as a function of dopant density in a heavily doped p-n junction diode are described in this paper. The heavy doping effects such as carrier degeneracy, dopant density-dependent dielectric constant and bandgap narrowing are accounted for by using the empirical approximation for the reduced Fermi-energy given by[1] and the dopant density dependent dielectric constant given by[2], as well as the bandgap narrowing model proposed by[3]. The results show that: (1) bandgap narrowing and carrier degeneracy have important effects on the junction built-in potential; (2) carrier degeneracy and dopant density-dependent dielectric constant are important to Debye length for the abrupt junction case, and (3) the dopant density-dependent dielectric constant is a key parameter which strongly affects the values of depletion layer width and depletion capacitance. These findings are important for modeling of heavily doped p-n junction devices in the VLSI applications.
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