Interface Engineering Boosting High Power Density and Conversion Efficiency in Mg2Sn0.75Ge0.25‐Based Thermoelectric Devices

材料科学 钝化 扩散阻挡层 掺杂剂 能量转换效率 光电子学 热稳定性 分析化学(期刊) 纳米技术 兴奋剂 化学工程 图层(电子) 色谱法 化学 工程类
作者
Xinzhi Wu,Yangjian Lin,Chengyan Liu,Zhijia Han,Huan Li,Yupeng Wang,Feng Jiang,Kang Zhu,Binghui Ge,Weishu Liu
出处
期刊:Advanced Energy Materials [Wiley]
标识
DOI:10.1002/aenm.202301350
摘要

Abstract Electrode contact interfaces for practical thermoelectric (TE) devices require high bonding strength, low specific contact resistivity, and superb stability. Herein, the state‐of‐the‐art Cu 2 MgFe/Mg 2 Sn 0.75 Ge 0.25 interface is designed for Mg 2 Sn 0.75 Ge 0.25 ‐based TE devices, adhering to the general strategy of high bonding propensity, thermal expansion matching, diffusion passivation, and dopant inactivation. The interfacial stability is verified by the in situ transmission electron microscopy analysis, thereby confirming the contributions from decreasing the chemical potential gradient and increasing the diffusion activation energy barrier. The single‐leg device exhibits a high power density ( ω max ) of 2.6 W cm −2 and conversion efficiency ( η max ) of 8% under a temperature difference (Δ T ) of 370 °C, which is the record‐breaking value in comparison to other Mg 2 (Si, Ge, Sn)‐based TE devices. Additionally, a two‐couple device with p ‐type Bi 2 Te 3 shows an excellent ω max of 1.3 W cm −2 and η max of 5.4% under a Δ T of 270 °C, comparable to commercial Bi 2 Te 3 devices. The proposed interface design strategy provides a general technique for constructing high‐performance devices using cutting‐edge TE materials.
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