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Suppression of crystallization process in Atomic Layer Deposited hafnium oxide films

结晶 图层(电子) 材料科学 原子层沉积 过程(计算) 氧化物 化学工程 冶金 纳米技术 计算机科学 工程类 操作系统
作者
Yanrui Li,Songwen Deng,Gang Li,Jun‐Tao Li,Qipeng Lv,Yuqi Jin
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:802: 140462-140462 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2024.140462
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