Recent Advances in Photoinduced Borylation via N-Heterocyclic Carbene Boryl Radicals

硼酸化 硼烷 化学 有机硼化合物 激进的 卡宾 三氟甲基化 有机合成 组合化学 光化学 纳米技术 有机化学 三氟甲基 催化作用 芳基 材料科学 烷基
作者
Xiang Liu,Chen Xu,Xuesi Zhou,Jiawei He
出处
期刊:Synthesis [Thieme Medical Publishers (Germany)]
被引量:1
标识
DOI:10.1055/a-2405-2961
摘要

Abstract Organoboron compounds are recognized as essential synthetic intermediates in organic chemistry and have found broad applications in pharmaceutical and materials science. In recent years, the development of novel boronating reagents has opened new avenues for the synthesis of organoboron compounds. Among these, N-heterocyclic carbene boranes (NHC-boranes), with their unique advantages, have garnered sustained interest and have evolved into important precursors for boron-centered radicals, participating in a diverse array of visible-light-induced borylation reactions. This short review primarily focuses on visible-light-induced radical borylation reactions involving NHC-boranes, summarizing the latest advancements in the field and offering inspiration for subsequent research. 1 Introduction 2 Photoinduced Borylation via NHC-Boryl Radicals 2.1 Photoinduced Borylation of Polyfluoroarenes 2.2 Photoinduced Borylation of Arenes 2.3 Photoinduced Borylation of Alkenes 2.4 Photoinduced Borylation of Alkynes 2.5 Photoinduced Borylation of Other Substrates 3 Conclusion and Future Prospects
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