Multi-layer inverse design of vertical grating couplers for high-density, commercial foundry interconnects

栅栏 光学 材料科学 消光比 光电子学 极化(电化学) 波长 物理 物理化学 化学
作者
Alec M. Hammond,Joel B. Slaby,Michael J. Probst,Stephen E. Ralph
出处
期刊:Optics Express [Optica Publishing Group]
卷期号:30 (17): 31058-31058 被引量:21
标识
DOI:10.1364/oe.466015
摘要

Density-based topology optimization is used to design large-scale, multi-layer grating couplers that comply with commercial foundry fabrication constraints while simultaneously providing beam profiles that efficiently couple to a single-mode optical fiber without additional optics. Specifically, we describe the design process and experimentally demonstrate both single- and dual-polarization grating couplers that couple at normal incidence (0° from the normal) with low backreflections (-13.7 dB and -15.4 dB at the center wavelength), broad 3 dB bandwidths (75 nm and 89 nm), and standard coupling efficiencies (-4.7 dB and -7.0 dB). The dual-polarization grating couplers exhibit over 30 dB of polarization extinction across the entire band. The devices were fabricated on the GlobalFoundries 45CLO CMOS platform and characterized across three separate wafers. This new design approach produces distinct features for multiple foundry layers and yields emitters with arbitrary, user-specified far-field profiles.
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