Influence of substrate (Si and glass), Cu under-layer, in situ annealing of Ta/Cu and post-annealing on magnetic properties of [Co(0.3 nm)/Ni(0.6 nm)]4, 10 multilayer thin films

退火(玻璃) 材料科学 矫顽力 分析化学(期刊) 薄膜 溅射沉积 磁各向异性 磁化 溅射 冶金 凝聚态物理 磁场 纳米技术 化学 物理 色谱法 量子力学
作者
R. Hussain,Aakansha Aakansha,S. Ravi,S. K. Srivastava
出处
期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Science+Business Media]
卷期号:31 (14): 11975-11982 被引量:11
标识
DOI:10.1007/s10854-020-03752-6
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