Influence of substrate (Si and glass), Cu under-layer, in situ annealing of Ta/Cu and post-annealing on magnetic properties of [Co(0.3 nm)/Ni(0.6 nm)]4, 10 multilayer thin films

退火（玻璃）材料科学矫顽力分析化学（期刊）薄膜溅射沉积磁各向异性磁化溅射冶金凝聚态物理磁场纳米技术化学色谱法量子力学物理

作者

R. Hussain,Aakansha Aakansha,S. Ravi,S. K. Srivastava

出处

期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Science+Business Media]
日期：2020-06-12 卷期号：31 (14): 11975-11982 被引量：11

标识

DOI：10.1007/s10854-020-03752-6

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