Effects of Anions on the Dissolution Kinetics of Metals

溶解 钝化 吸附 化学 金属 卤化物 无机化学 离子 水溶液中的金属离子 动力学 汞齐(化学) 物理化学 电极 物理 量子力学 有机化学 图层(电子)
作者
Ja. M. Kolotyrkin
出处
期刊:Journal of The Electrochemical Society [Institute of Physics]
卷期号:108 (3): 209-209 被引量:167
标识
DOI:10.1149/1.2428048
摘要

In acidic solutions , , and ions increase the true anodic dissolution rate of cadmium and of indium amalgam considerably. This is accounted for by the direct participation of these ions in elementary processes of ionizing metal atoms. The chemoadsorptive interaction of halide ions with surface atoms of a metal takes place at potentials much more negative than the dissolution potential of the metal. The extent of "filling" the surface with adsorbed anions increases considerably with shift of potential to more positive values. Some concepts are developed about the mechanism of dissolution of metal with direct participation of the solution components. These concepts explain both the dissolution rate acceleration by ions that specifically adsorb and the passivation of a metal surface by adsorbed oxygen from water.
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