Effects of Ar gas pressure on microstructure of DLC films deposited by high-power pulsed magnetron sputtering

作者
Setsuo Nakao,Ken Yukimura,Hisato Ogiso,Shizuka Nakano,Tsutomu Sonoda
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:89: 261-266 被引量:40
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2012.07.004

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