Monolithic perovskite/black-silicon tandems based on tunnel oxide passivated contacts

钙钛矿(结构) 钝化 晶体硅 材料科学 串联 光电子学 氧化物 冶金 纳米技术 复合材料 化学 结晶学 图层(电子)
作者
Zhiqin Ying,Zhenhai Yang,Jingming Zheng,Wei He,Li Chen,Chuanxiao Xiao,Jingsong Sun,Chunhui Shou,Ganghua Qin,Jiang Sheng,Yuheng Zeng,Baojie Yan,Xi Yang,Jichun Ye
出处
期刊:Joule [Elsevier BV]
卷期号:6 (11): 2644-2661 被引量:77
标识
DOI:10.1016/j.joule.2022.09.006
摘要

Perovskite/silicon tandems offer a promising pathway to increase the efficiency beyond the Auger limit of silicon at minimal additional cost. However, it is challenging to accommodate the solution-processed perovskite without flattening or reducing pyramidal texture of silicon subcells. Herein, we report the first monolithic perovskite/silicon tandem featuring an industrially applicable front-side-nanostructured black silicon with a tunnel oxide passivated contact (TOPCon). The TOPCon together with the surface reconstruction of black silicon contributes to the high-level surface passivation without sacrificing the broadband light trapping. Additionally, the reconstructed nanotexture significantly facilitates the wetting of perovskite and acts as a nanoconfining scaffold to guide the vertical growth of perovskite. The resulting tandem yields a certified efficiency of 28.2%, representing one of the highest efficiencies reported on either perovskite/TOPCon or double-side-textured perovskite/silicon tandems.
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