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作者
Jan N. Donges,Marvin Schlischka,Ching‐Wen Shih,Monica Pengerla,Imad Limame,Johannes Schall,Lucas Bremer,Sven Rodt,Stephan Reitzenstein
出处
期刊：Nanoscale
[Royal Society of Chemistry]
日期：2022-01-01
卷期号：14 (39): 14529-14536
被引量：8
摘要
Machine learning is used to improve in situ electron beam lithography capabilities. Specially trained algorithms increase the sensitivity by more than a factor of 10 in the deterministic processing of high-performance quantum light sources.
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