High-quality silicon nitride CMOS photonic devices

光子学 光电子学 材料科学 硅光子学 CMOS芯片 氮化硅 氮化物 光子晶体 纳米技术 图层(电子)
作者
Rakesh Krishna,Zhongdi Peng,Amir H. Hosseinnia,Ali Adibi
出处
期刊:IEEE Photonics Technology Letters [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:36 (12): 763-766 被引量:2
标识
DOI:10.1109/lpt.2024.3396622
摘要

In this paper, high-quality silicon nitride (SiN) devices are demonstrated for the first time in a monolithic complementary-metal-oxide-semiconductor (CMOS) photonic platform with a hybrid silicon (Si)-SiN capability. Device demonstrations include a racetrack resonator with quality factor (Q) ≈ 10 5 and a coupled resonator-based wavelength filter with an insertion loss of 1.78 dB and extinction ratio of 6.88 dB. Although high-quality SiN devices are demonstrated in multiple foundries, the ability to monolithically co-integrate these devices with Si-based detectors and other electronic circuits will enable a wide range of system-level applications requiring low loss, high Q, and low-thermal sensitivity in a wide range of wavelengths from visible to infrared.
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