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Advances in full-chip three-dimensional resist modeling for low k1 EUV and DUV lithography

极紫外光刻 抵抗 平版印刷术 材料科学 炸薯条 多重图案 电子束光刻 光电子学 光学 计算机科学 纳米技术 物理 电信 图层（电子）
作者
Betsy Grubbs,Bernd Kuechler,Hyesook Hong,Enas Sakr,Lena Zavyalova,Folarin Latinwo,Delian Yang,Linghui Wu,Yan Feng,Kevin Lucas
标识
DOI：10.1117/12.3013125
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