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作者
Yeon‐Wha Oh,Hoon Kim,Lee-Mi Do,Kyu-Ha Baek,Il‐Suk Kang,Ga‐Won Lee,Chan‐mo Kang
出处
期刊:RSC Advances
[Royal Society of Chemistry]
日期:2024-01-01
卷期号:14 (50): 37438-37444
被引量:2
摘要
In this study, we report rapid activation of a solution-processed aluminum oxide gate dielectric film to reduce its processing time under ambient atmosphere.
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