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High performance DMD lithography based on oblique Scanning, pulse Lighting, and optical distortion calibration

斜格 光学 失真（音乐） 校准 平版印刷术 材料科学 光电子学 物理 放大器 哲学 语言学 CMOS芯片 量子力学
作者
Wen-Feng Lee,Chun-Ying Wu,Yung-Chun Lee
出处
期刊：Optics and Laser Technology [Elsevier BV]
日期：2024-12-30 卷期号：183: 112388-112388
标识
DOI：10.1016/j.optlastec.2024.112388
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