Bandgap Engineering of Strained Monolayer and Bilayer MoS2

单层 二硫化钼 光致发光 拉曼光谱 材料科学 双层 声子 带隙 应变工程 凝聚态物理 光谱学 直接和间接带隙 拉伤 电子能带结构 光电子学 分子物理学 异质结 磷烯 宽禁带半导体
作者
Hiram J. Conley,Bin Wang,Jed I. Ziegler,Richard F. Haglund,Sokrates T. Pantelides,Kirill I. Bolotin
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:13 (8): 3626-3630 被引量:2451
标识
DOI:10.1021/nl4014748
摘要

We report the influence of uniaxial tensile mechanical strain in the range 0-2.2% on the phonon spectra and bandstructures of monolayer and bilayer molybdenum disulfide (MoS2) two-dimensional crystals. First, we employ Raman spectroscopy to observe phonon softening with increased strain, breaking the degeneracy in the E' Raman mode of MoS2, and extract a Grüneisen parameter of ~1.06. Second, using photoluminescence spectroscopy we measure a decrease in the optical band gap of MoS2 that is approximately linear with strain, ~45 meV/% strain for monolayer MoS2 and ~120 meV/% strain for bilayer MoS2. Third, we observe a pronounced strain-induced decrease in the photoluminescence intensity of monolayer MoS2 that is indicative of the direct-to-indirect transition of the character of the optical band gap of this material at applied strain of ~1%. These observations constitute a demonstration of strain engineering the band structure in the emergent class of two-dimensional crystals, transition-metal dichalcogenides.
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