High-Gain Transparent Inverters Based on Deuterated ZnO TFTs Fabricated by Atomic Layer Deposition

薄膜晶体管 材料科学 光电子学 晶体管 CMOS芯片 逆变器 放大器 阈值电压 电压 图层(电子) 电子工程 电气工程 纳米技术 工程类
作者
Wanpeng Zhao,Leixiao Han,Ning Zhang,Xinyu Zhang,Shurong Dong,Yang Liu,Zhi Ye
出处
期刊:IEEE Electron Device Letters [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:41 (10): 1508-1511 被引量:13
标识
DOI:10.1109/led.2020.3018443
摘要

Three types of highly transparent inverter circuits, enhancement/depletion, pseudo-CMOS and feedback structures, are fabricated by using zinc-oxide thin film transistors (TFTs) with deuterium plasma immersion to adjust the threshold voltage of the depletion-mode TFTs. Their DC and AC performance are investigated and compared systematically. Especially, the feedback structure inverters demonstrate a maximum gain of -310V/V at V DD = 10 V, which is the highest DC gain ever to be reported for oxide TFTs. Furthermore, the frequency responses of these three inverter types are examined, showing a maximum AC gain of 210 V/V at a 10 mV amplitude input in the pseudo-CMOS inverters. These high-gain transparent inverters have great potential to be used as the common-source amplifiers in the measurement of photo-stimulated electroencephalogram signals.
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