Principles for 2D‐Material‐Assisted Nitrides Epitaxial Growth

材料科学 外延 氮化物 无定形固体 异质结 纳米技术 半导体 石墨烯 范德瓦尔斯力 光电子学 基质(水族馆) 结晶学 化学 分子 地质学 海洋学 有机化学 图层(电子)
作者
Qi Chen,Kailai Yang,Bo Shi,Xiaoyan Yi,Junxi Wang,Jinmin Li,Zhiqiang Liu
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:35 (18) 被引量:10
标识
DOI:10.1002/adma.202211075
摘要

Beyond traditional heteroepitaxy, 2D-materials-assisted epitaxy opens opportunities to revolutionize future material integration methods. However, basic principles in 2D-material-assisted nitrides' epitaxy remain unclear, which impedes understanding the essence, thus hindering its progress. Here, the crystallographic information of nitrides/2D material interface is theoretically established, which is further confirmed experimentally. It is found that the atomic interaction at the nitrides/2D material interface is related to the nature of underlying substrates. For single-crystalline substrates, the heterointerface behaves like a covalent one and the epilayer inherits the substrate's lattice. Meanwhile, for amorphous substrates, the heterointerface tends to be a van der Waals one and strongly relies on the properties of 2D materials. Therefore, modulated by graphene, the nitrides' epilayer is polycrystalline. In contrast, single-crystalline GaN films are successfully achieved on WS2 . These results provide a suitable growth-front construction strategy for high-quality 2D-material-assisted nitrides' epitaxy. It also opens a pathway toward various semiconductors heterointegration.
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