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作者
Peng Wang,Rajesh Menon
出处
期刊：Frontiers in Optics
日期：2012-01-01
被引量：1
标识
DOI：10.1364/fio.2012.ftu3a.4
摘要
We report on a novel maskless-lithography technique to fabricate three-dimensional microstructures via digital holography. The hologram design to generate 3D light field for photoresist exposure is optimized by a modified version of the direct-binary-search algorithm.
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