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High-precision alignment system for DMD-based maskless lithography in multilayer exposure applications
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电子束光刻
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图层(电子)
作者
Ting Hsuan Miau,
Chun‐Ying Wu,
Yung-Chun Lee
出处
期刊:
Precision Engineering-journal of The International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology
[Elsevier BV]
日期:2025-08-18
卷期号:96: 937-943
被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.precisioneng.2025.07.026
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