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作者
Tanya Agarwal,Santosh Adhikari,Yu Seung Kim,Siddharth Komini Babu,Tian Ding,Chulsung Bae,Nguyet N. T. Pham,Seung Geol Lee,Ajay K. Prasad,Suresh G. Advani,Allen Sievert,Wipula Priya Rasika Liyanage,Timothy Hopkins,Andrew Park,Rod L. Borup
摘要
Fluoroalkyl phosphonic acids are demonstrated to be an efficient radical scavenger for Nafion™, showing a 58% lower fluoride emission rate than the state of the art, cerium.
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