The Effect of Ion Implantation on Carbon Diffusion Through Si/SiOx Layer

离子注入 材料科学 扩散 图层(电子) 碳纤维 离子 光电子学 纳米技术 化学 复合材料 物理 复合数 有机化学 热力学
作者
Phillip K. Poon,Tatt Wai Wan,Chan Lik Tan,Kuan Yew Cheong
标识
DOI:10.1109/iemt61324.2024.10875198
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