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作者
T. Schram,
Surajit Sutar,
Iuliana Radu,
Inge Asselberghs
出处
期刊：
Advanced Materials
[Wiley]
日期：2022-09-07
卷期号：34 (48): e2109796-e2109796
被引量：81
链接
wiley.com
nih.gov
doi.org
标识
DOI：10.1002/adma.202109796
摘要
channel growth, high-k dielectric deposition, and contact engineering. Finally, the process requirements for building ultra-scaled stacked nanosheets are also reflected on.
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