Enhanced opto-electronic properties of X-doped (X = Al, Ga, and In) CuO thin films for photodetector applications

光电流 材料科学 薄膜 兴奋剂 光电探测器 响应度 光探测 光电子学 带隙 量子效率 光电导性 半导体 纳米技术
作者
T. Gnanasekar,S. Valanarasu,Himadri Tanaya Das,N. Chidhambaram,R. S. Rimal Isaac,Abdullah M. Al‐Enizi,Mohd Ubaidullah,Vasudeva Reddy Minnam Reddy
出处
期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Science+Business Media]
卷期号:33 (23): 18786-18797 被引量:12
标识
DOI:10.1007/s10854-022-08728-2
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