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Structural and mechanical characterization of in-situ phosphorus-doped rapid transport low pressure chemical vapor deposition polycrystalline silicon films

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作者
S. Kallel,Bachir Semmache,M. Lemiti,Henri Jaffrezic,A. Laugier
出处
期刊：Microelectronics Journal [Elsevier BV]
日期：1999-07-01 卷期号：30 (7): 699-703 被引量：3
标识
DOI：10.1016/s0026-2692(99)00014-2
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