Spatially-Selective Incorporation of Bonded-Nitrogen into Ultra-Thin Gate Dielectrics by Low-Temperature Plasma-Assisted Processing

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作者
G. Lucovsky
出处
期刊:Springer eBooks [Springer Nature]
卷期号:: 147-164 被引量:5
标识
DOI:10.1007/978-94-011-5008-8_11

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