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作者
Raoul Blume,Wolfram Calvet,A. Ghafari,Thomas Mayer,Axel Knop‐Gericke,Robert Schlögl
摘要
Formation of Ni-(oxy)-hydroxides on NiO x thin films in H 2 O vapor is studied by combined in situ XPS/XAS, SEM and DFT. Formation is mediated by structural defects and oxygen vacancies at high temperatures instigating H 2 O dissociation and metastable OH chemisorption.
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