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Achieving the low stress and defects of diamond film by introduction of SiNx dielectric layer

钻石 电介质 材料科学 图层（电子） 压力（语言学） 工程物理 光电子学 复合材料 工程类 语言学 哲学
作者
Zhiliang Yang,Xurui Feng,Yunkai Wang,Siyi Chan,Zhijian Guo,Yuchen Liu,Kang An,Liangxian Chen,Jinlong Liu,Junjun Wei,Chengming Li
出处
期刊：Diamond and Related Materials [Elsevier BV]
日期：2025-03-01 卷期号：: 112260-112260
标识
DOI：10.1016/j.diamond.2025.112260
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