Electrical-stress driven oxidation in 940 nm oxide-confined VCSEL

氧化物 热氧化 材料科学 垂直腔面发射激光器 压力(语言学) 腐蚀 透射电子显微镜 GSM演进的增强数据速率 光电子学 复合材料 激光器 光学 纳米技术 冶金 电信 物理 哲学 语言学 计算机科学
作者
Michael Pusterhofer,Robert Fabbro,Raffaele Coppeta,G. Fasching,P. Hadley
出处
期刊:Semiconductor Science and Technology [IOP Publishing]
卷期号:37 (1): 015010-015010 被引量:2
标识
DOI:10.1088/1361-6641/ac3c99
摘要

Abstract In this work, accelerated stress tests have been performed on oxide confined vertical cavity surface emitting LASER arrays to study the formation of defects degrading the performance of the device. One such defect is an additional oxide volume forming at the oxide aperture edge, which is used for optical and electrical confinement. After producing an additional oxide volume the sample was investigated using transmission electron microscopy to estimate the oxidation speed. To produce further insights into the formation process, the temperature during such a stress test was estimated by experimentally measuring the thermal resistance, and by a thermodynamic transport simulation. Both methods produced very similar results showing a temperature increase of around 22 K for a dissipated power of 3.5 mW per emitter. However this temperature rise is very small when compared to oxidation models found in literature and should not be enough to promote the oxidation. This indicates the presence of a new enhanced oxidation mechanism, which could be connected to corrosion based failure mechanisms reported in literature.
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