Surface Passivation of Cs 2 AgI 3 :Cu with AgI for High‐Performance X‐Ray Imaging Scintillators

材料科学 闪烁体 闪烁 钝化 光电子学 光子 碘化银 光致发光 纳米技术 曲面(拓扑) 产量(工程) 荧光粉 碘化物 辐射传输 放射发光 光电探测器 卤化银 光学
作者
Muhammad Bilal,Kun Zhou,Tengyue He,Shu‐Yi Lin,Ahmed Uddin,Jun Yin,Qingquan He,Omar F. Mohammed,Jun Pan
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
卷期号:36 (14) 被引量:3
标识
DOI:10.1002/adfm.202517266
摘要

Abstract High‐performance X‐ray scintillators are essential for advanced imaging technologies in various fields, including security, aerospace, high‐energy physics, and health care. However, the existing scintillation materials in the X‐ray community face significant challenges related to low light yield, long decay time, afterglow, and toxicity. This study reports a novel post‐synthesis surface engineering strategy for copper (Cu)‐doped dicesium silver iodide (Cs 2 AgI 3 ) using a precisely controlled silver iodide (AgI) treatment to address surface defects, significantly enhancing radiative channels. Density functional theory calculations indicate that AgI treatment passivates the surface defects introduced by Cu⁺ doping, substantially reducing nonradiative recombination centers. Thus, the proposed scintillator achieves an exceptional light yield of over 55 000 photons MeV −1 and a rapid response time of ≈426.4 ns, significantly outperforming the existing commercial scintillators. Furthermore, the scintillator film exhibits an impressive X‐ray imaging resolution (18.5 lp mm −1 ), enhanced durability, and easy processing, facilitating the scalable production of flexible scintillation screens. These significant advancements underscore the potential of the surface engineering strategy for next‐generation scintillation materials in X‑ray imaging technology.
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