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作者
Chi Yan,Jialin Li,Haobo Wang,Hua Tong,Xiaojun Ye,Kai Wang,Xiao Yuan,Cui Liu,Hongbo Li
出处
期刊：RSC Advances
[Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
卷期号：14 (47): 34833-34842
被引量：1
摘要
Al 2 O 3 -doped TiO 2 thin films were deposited on alkali-activated polyimide using atomic layer deposition (ALD). The results demonstrate that polyimide coated with Al₂O₃/TiO₂ films exhibits excellent resistance to atomic oxygen (AO) erosion.
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