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作者
Seung Ho Ryu,
Seong Keun Kim
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[The Royal Society of Chemistry]
日期：2025-01-01
卷期号：13 (8): 3988-3995
被引量：2
标识
DOI：10.1039/d4tc04752d
摘要
In this study, we examine the atomic layer deposition (ALD) growth behavior of crystalline MoS 2 films on various substrates, including SiO 2 , mica, and Al 2 O 3 , at deposition temperatures of ≥650 °C.
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